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用氧化鋁和氧化鋯在低溫下對(duì)氧化鋁陶瓷的鏈接實(shí)驗(yàn)

發(fā)布日期:2017年10月20日

氧化鋁陶瓷機(jī)械強(qiáng)度高、介電損耗小、絕緣電阻大、硬度高、耐磨、耐腐蝕、耐高溫和抗熱沖擊,廣泛應(yīng)用于航空、軍事、機(jī)械、石油、化工、建筑及電子等各個(gè)行業(yè)。但是,由于脆性大、燒結(jié)溫度高和加工困難等缺點(diǎn),氧化鋁陶瓷難以制備成尺寸大、形狀復(fù)雜的構(gòu)件,因此其應(yīng)用范圍也受到了很大的限制。使用陶瓷連接將簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)陶瓷部件組合成形狀復(fù)雜的構(gòu)件,對(duì)于降低其生產(chǎn)成本,拓展其應(yīng)用范圍具有重要意義。

目前,對(duì)于氧化物陶瓷燒結(jié)體的連接方法主要包括:釬焊法、黏結(jié)法、燃燒反應(yīng)法及微波加熱連接法等。其中,使用傳統(tǒng)的釬焊法發(fā)展較為成熟。但是釬焊法使用金屬相作為連接層連接氧化鋁結(jié)構(gòu)陶瓷存在一些問(wèn)題,一是釬焊接頭的強(qiáng)度低于氧化鋁陶瓷基體,二是接頭中因氧化鋁陶瓷和焊接金屬的熱膨脹系數(shù)的不匹配而產(chǎn)生熱應(yīng)力,三則是一般釬料如錫、鉛等熔點(diǎn)低,使得接頭耐高溫材料性能不足,且耐腐蝕性能差。黏合劑黏結(jié)法工藝簡(jiǎn)單、效率高和成型性能好,但是粘接得到的接頭強(qiáng)度相對(duì)較低、耐熱性差;燃燒反應(yīng)法等方法,雖然也能用于連接陶瓷材料,但連接過(guò)程中界面反應(yīng)難于控制,會(huì)產(chǎn)生較多的缺陷、氣孔使得接頭強(qiáng)度降低。由于氧化鋁陶瓷熔點(diǎn)高,耐化學(xué)腐蝕能力強(qiáng),在很多應(yīng)用領(lǐng)域陶瓷內(nèi)襯管道上的使用過(guò)程中,需要構(gòu)件在高溫下(1000℃左右)仍然具有良好的穩(wěn)定性和強(qiáng)度,這就為氧化鋁陶瓷的傳統(tǒng)連接方法提出了新的挑戰(zhàn)。

為了實(shí)現(xiàn)氧化鋁陶瓷高強(qiáng)度的連接,控制好界面熱應(yīng)力是關(guān)鍵。氧化鋁的熱膨脹系數(shù)為9.3×10-6T-1,低于一般金屬釬料的熱膨脹系數(shù)。熱膨脹系數(shù)的不匹配會(huì)在高溫連接過(guò)程中產(chǎn)生較大的熱應(yīng)力,影響連接效果。因此,使用氧化鋁或者與氧化鋁的的熱膨脹系數(shù)相近的氧化鋯(10.0×10-6T-1)作為連接材料,可以避免產(chǎn)生熱應(yīng)力,同時(shí)提高連接層的穩(wěn)定性和使用溫度。但是由于氧化鋁和氧化鋯的熔點(diǎn)高,要形成致密的連接層需要較高的溫度,增加了陶瓷連接的工藝難度。本工作在使用氧化鋁和氧化鋯作為連接材料的基礎(chǔ)上,提出添加熔點(diǎn)較低的氧化硼相作為第二項(xiàng),實(shí)現(xiàn)了在較低溫度下(800℃左右)對(duì)氧化鋁陶瓷的連接,比較了不同連接材料的組成和顯微結(jié)構(gòu)的不同。

1實(shí)驗(yàn)步驟

本實(shí)驗(yàn)所采用的兩種連接材料分別是63.9wt.%ZrO2-36.1wt.%B2O3,59.4wt.%氧化鋁-40.6wt.%B2O3。將按比例稱量好的樣品倒入研缽內(nèi)加入少量乙醇混合均勻后干燥。將待燒結(jié)的氧化鋁陶瓷水平放置,然后將混合好的連接材料均勻鋪在兩塊氧化鋁陶瓷之間,并加壓使陶瓷與連接材料之間保持良好的接觸,然后放入馬弗爐裝置中進(jìn)行陶瓷連接。以10℃/min的速率升溫到800℃,然后保溫5min,自然冷卻至室溫。用金剛石刀片將連接后的樣品切割并進(jìn)行表面拋光處理,處理后將試樣置于SEM中進(jìn)行顯微結(jié)構(gòu)分析,使用EDS對(duì)連接層進(jìn)行了元素面掃描分析。在進(jìn)行連接實(shí)驗(yàn)的同時(shí),將連接材料單獨(dú)進(jìn)行加熱處理,冷卻后研磨成粉,利用XRD對(duì)連接層的物相進(jìn)行分析。

2實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

2.1連接材料為ZrO2-B2O3

800℃熱處理后,氧化鋁陶瓷之間實(shí)現(xiàn)了連接,連接層分布均勻,與基體之間無(wú)明顯色差。圖1為使用B2O3-ZrO2作為連接相的連接層的XRD分析結(jié)果。結(jié)果顯示,800℃熱處理實(shí)現(xiàn)連接后,B2O3與氧化鋁沒(méi)有發(fā)生明顯的化學(xué)反應(yīng),沒(méi)有新物質(zhì)生成。連接層成分與初始原料相同。將連接后的氧化鋁陶瓷樣品切斷并將斷面拋光后使用SEM觀察。如圖2所示,連接層厚度約為200μm,形貌均勻,無(wú)裂紋,氣孔等缺陷。與陶瓷兩個(gè)表面連接緊密,沒(méi)有發(fā)生分層或剝離。在更高放大倍率下,可以看到在氧化鋁表面附近連接層一側(cè),沿界面存在一些粒徑小于10μm的顆粒。通過(guò)進(jìn)一步使用面掃描對(duì)斷面成分分布進(jìn)行觀察(如圖3所示),可以看到這些顆粒中Zr元素富集。連接層中斷面形貌均勻的區(qū)域與B分布的區(qū)域一致。同時(shí),氧化鋁沒(méi)有向連接層中擴(kuò)散。連接過(guò)程中B2O3與ZrO2沒(méi)有發(fā)生化學(xué)反應(yīng),這些顆粒成分為ZrO2。熱處理過(guò)程中,B2O3形成液相。由于ZrO2比重較大,重力場(chǎng)中會(huì)沉積在液相底部。實(shí)驗(yàn)中,左側(cè)氧化鋁陶瓷在連接過(guò)程中位于下方,因此液相B2O3中ZrO2通過(guò)沉降分布在界面靠近氧化鋁一側(cè)。

圖1 ZrO2-B2O3連接層的XRD圖譜
圖2 Al2O3/ZrO2-B2O3/Al2O3連接層的顯微結(jié)構(gòu)照片
圖3 (a)Al2O3/ZrO2-B2O3界面的顯微結(jié)構(gòu)照片及EDS元素面掃 描分析: (b) Al元素,(c) B元素,(d) Zr元素

2.2氧化鋁-B2O3

800℃熱處理后,氧化鋁陶瓷之間實(shí)現(xiàn)了緊密連接,連接層分布均勻,顏色為白色,與基體之間也無(wú)明顯色差。圖4為使用B2O3-氧化鋁作為連接相的連接層的XRD分析結(jié)果??梢钥吹?,熱處理連接后,連接層成分包括B2O3,氧化鋁和Al4B2O9。B2O3和氧化鋁在加熱過(guò)程中發(fā)生了化學(xué)反應(yīng),生成產(chǎn)物Al4B2O9。反應(yīng)遵循如下方程式:

B2O3+2氧化鋁=Al4B2O9@

使用SEM觀察拋光斷面并對(duì)斷面成分進(jìn)行面掃描,結(jié)果如圖5所示??梢钥吹剑谶B接層中分布有大量顆粒。Al元素的分布與顆粒的分布一致,猜測(cè)這些顆??赡馨趸X和Al4B2O9。B元素的EDS分析表明,連接層中除大量顆粒之外的連續(xù)相為未參與反應(yīng)的B2O3。在進(jìn)行B元素的EDS分析時(shí),重元素Al的存在使B元素特征X射線的強(qiáng)度變低。因此Al4B2O9中B元素信號(hào)會(huì)受到Al的影響,造成EDS分布結(jié)果顯示為顆粒所在區(qū)域B元素分布少。interface在更高放大倍率下對(duì)氧化鋁陶瓷與連接層界面附近的顆粒進(jìn)行SEM觀察,如圖6所示,可以看到大量隨機(jī)分布的棒狀晶粒的存在。這些棒狀晶粒即為B2O3與氧化鋁反應(yīng)產(chǎn)物Al4B2O9。B2O3除了與氧化鋁粉體反應(yīng),同時(shí)也會(huì)與氧化鋁陶瓷表面發(fā)生反應(yīng),形成相同的產(chǎn)物Al4B2O9。相比于原料粉體氧化鋁,陶瓷表面的反應(yīng)活性較低,因此反應(yīng)產(chǎn)物Al4B2O9較少。陶瓷表面與B2O3反應(yīng)產(chǎn)生的棒狀A(yù)l4B2O9與連接層內(nèi)棒狀A(yù)l4B2O9相互交錯(cuò)穿插,強(qiáng)化了連接層與陶瓷基體的界面,使得氧化鋁-B2O3體系連接氧化鋁陶瓷具有更高的連接強(qiáng)度。

圖6 Al2O3-B2O3/Al2O3界面的顯微結(jié)構(gòu)

3結(jié)論

分別實(shí)現(xiàn)了B2O3-ZrO2和氧化鋁-B2O3體系用于氧化鋁陶瓷的連接。B2O3-ZrO2體系連接層沒(méi)有新物質(zhì)產(chǎn)生,連接層成分分布較為均勻,底層有ZrO2顆粒的富集,連接強(qiáng)度不足。由于B2O3分別與粉體氧化鋁和氧化鋁陶瓷表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成交錯(cuò)穿插的Al4B2O9棒狀晶粒,使用氧化鋁-B2O3體系強(qiáng)化了連接層與陶瓷的界面獲得更大的連接強(qiáng)度。

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